圖 4.8 拋光盤轉(zhuǎn)速對表面粗糙度的影響

　　如圖 4.8 所示為拋光盤轉(zhuǎn)速對材料表面粗糙度的影響。從圖可知拋光盤轉(zhuǎn)速在小于 60r/min 時，表面粗糙度隨拋光盤轉(zhuǎn)速的增加而減小，并在 60r/min 時達到小值 Ra0.028 ，當拋光盤轉(zhuǎn)速大于 60r/min 繼 續(xù)增加時，合金表面的粗糙度值增大。因為試驗中拋光液的流量是有限的，在一定范圍內(nèi)，相同拋光載荷的條件下，拋光盤轉(zhuǎn)速增加使得拋光液在拋光墊上的流 動 速度增加，因此盤面上拋光液液膜的支撐力也會增加，所以為了保持液膜負荷力與拋光壓力相互平衡，拋光液液膜的小厚度增加。

　　同時，在拋光液膜小厚度相同的情況下，拋光盤轉(zhuǎn)速的增加，使得拋光液動壓效應(yīng)增強，液膜所承受的負荷力增大，所以為了使拋光液膜能在所受載荷不變的 條 件下達到受力的平衡，只有通過加大拋光液流場內(nèi)液膜厚度的方式來減小液膜負荷力，同時也使得小拋光液膜厚度增加。而當拋光盤轉(zhuǎn)速過大時，拋光液在盤 面上 受到的離心力增大，部分拋光液未到達拋光區(qū)域即被甩出拋光盤面，導致拋光區(qū)域液膜的拋光液供應(yīng)不足，同時此時拋光壓力的作用使得樣品與拋光墊之間的 間隙尺 寸很小，拋光液的補充更加困難。所以過高的拋光盤轉(zhuǎn)速，使拋光液膜分布不均勻，拋光后表面質(zhì)量變差。試驗還發(fā)現(xiàn)當拋光盤轉(zhuǎn)速過大時，拋光盤盤面抖 動較大， 機床穩(wěn)定性較差，也不利于得到完美的表面。因此，兼顧多種因素，平面拋光過程中的拋光盤轉(zhuǎn)速應(yīng)該操控在 60r/min 左右比較合適。